搪瓷烧制工艺是搪瓷设备厂家生产搪瓷反应釜设备的重要工艺之一，而在搪瓷烧制过程中其烧结温度的控制则是烧制工艺的重要工序，所以我们必须严格遵循搪瓷烧制工艺流程、按照烧制工艺的技术参数和操作要点，精心生产高质量搪瓷设备。

      在搪烧阶段，搪瓷反应釜采用“低温长烧”、“搪烧后缓冷”的烧制工艺。经过三次搪烧后没有气孔，多次搪烧只是为了增加瓷层的厚度，让搪瓷反应釜具备良好的耐腐蚀、耐摩擦及耐碰撞等优点。

   　1、搪瓷反应釜瓷层厚度规定是0.8-2mm，搪烧的次数应该在5-7次。有许多企业在生产时减少搪烧次数、增大每次喷釉厚度。

　   2、设备在制造过程中产生的应力除用退火的方式释放外，还要在设备搪烧好后少静置15天，成品设备在静置期没有爆瓷方可出厂。

　   3、为了弥补在制作过程中产生的瓷层针孔、爆瓷缺陷，不能反复喷釉搪烧，导致设备法兰严重变形。

搪瓷烧制工艺流程 ：

       1、瓷釉制备：瓷釉是涂在金属坯体上的玻璃态硅酸盐或硼硅酸盐涂层。要按坯体材料种类和制品性能的要求来确定瓷釉化学组成，要求准确称量，充分混匀（干混,也可加5-15％的水,并制成小球）,在隔焰池窑、坩埚窑或回转炉中熔化达一定均匀程度，经水淬、气冷或热压成薄片(0.6-1.5mm)，然后研磨（用球磨机或气流粉磨机）成干釉粉或加水制成釉浆。

       2、涂搪：将釉粉或釉浆均匀涂敷在金属坯胎上，经烧成后再涂敷面釉。涂搪方法有浸渍、浇注、喷雾、洒粉法等。洒粉法是在灼热底釉上洒上干的面釉粉，使涂搪和焙烧合二为一的操作。此外，还有静电涂粉和电泳法涂搪等。

       3、烧成：已涂搪瓷釉的坯件置于箱式炉、转盘炉或隧道炉中烧成。含密着剂的硼硅酸盐底釉，烧结温度约为880-930℃，为使其能在坯体表面形成氧化铁层，有利于瓷层同坯体（钢材）良好密着，需采取氧化气氛；面釉烧结温度略低，用锑乳浊色的锑面釉为850-900℃，钛面釉为820-860℃，为使面釉具有良好乳浊和鲜艳色彩，并与底釉紧密结合，要严格控制烧成时间和炉中气氛，铸铁坯体若用锑釉和钛釉则对气粉尤为敏感。