锑化铟靶材 InSb靶材 基本介绍

锑化铟（InSb）

1，物理性质：

原子量：236.578

立方晶系闪锌矿结构，金属光泽。

熔点：525℃

禁带宽度：0.17 eV

密度：5.78 g/cm3

迁移率大

锑化铟靶材 InSb靶材 性能特点

 

锑化铟靶材 InSb靶材 技术参数

可按客户要求定做

锑化铟靶材 InSb靶材 使用说明

名称符号纯度规格锑化铝AlSb4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料硫化铝Al2S34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料硒化铝Al2Se34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料碲化铝Al2Te34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料硫化铋Bi2S34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料氧化锑Sb2O34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料硫化锑Sb2S34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料硒化锑Sb2Se34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料碲化锑Sb2Te34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料硫化 As2S34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料硒化 As2Se34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料碲化 As2Te34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料硒化铋Bi2Se34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料碲化铋Bi2Te34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料氧化铋Bi2O34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料硒化铋Bi2Se34N,5N粉末， 块，颗粒，溅射靶材，蒸发镀膜料碲化铋Bi2Te34N,5N粉末，块，颗粒，溅射靶材，蒸发镀膜料 化镉Cd3As24N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料锑化镉CdSb4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料 CdSe4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料 CdS4N,5N块，粉末，颗粒，溅射靶材，蒸发镀膜料 CdTe4N,5N粉末， 块，颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料硫化铜Cu2S4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料硒化铜CuSe4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料砷化镓GaAs4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料磷化 GaP4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料锑化 GaSb4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料氧化 Ga2O34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料硫化镓GaS4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料硒化 Ga2Se34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料碲化 GaTe4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料硫化锗GeS4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料硒化锗GeSe24N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料碲化锗GeTe4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料铋化铟InBi4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料 化铟InAs4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料锑化铟InSb4N,5N粉末，块， 颗粒，溅射靶材，蒸发镀膜料氧化铟In2O34N,5N粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料磷化铟InP4N,5N块，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料

锑化铟靶材 InSb靶材 采购须知

1、按照客户需要可以提供材质证明，或者提供第三方检测认证，质量**可靠。  
2、购买时确认产品规格，纯度，数量及交期。默认中通快递发货！ 
3、关于客服 我们24小时开通客服热线，欢迎咨询洽谈！ 
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