纯钨制品 钨离子注入植入件 异型定制钨加工件

离子注入机是高压小型加速器中的一种，应用数量。它是由离子源得到所需要的离子，经过加速得到几百千电子伏能量的离子束流，用做半导体材料、大规模集成电路和器件的离子注入，还用于金属材料表面改性和制膜等。

离子注入机利用离子源中灯丝产生的热电子在电场的作用下轰击气体分子，使之电离。待注入的杂质源如果是气态，便可以直接引入到离子源的电场中，如果是固态，则还需加热蒸发，变为气相后引入到这个电场中。气相的杂质源在电场中被电离后变成为离子（即带电的原子或分子）。

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离子注入机是集成电路制造前工序中的关键设备，离子注入是对半导体表面附近区域进行掺杂的技术，其目的是改变半导体的载流子浓度和导电类型。离子注入与常规热掺杂工艺相比可对注入剂量、注入角度、注入深度、横向扩散等方面进行 的控制，克服了常规工艺的限制，提高了电路的集成度、开启速度、成品率和寿命，降低了成本和功耗。离子注入机广泛用于掺杂工艺，可以满足浅结、低温和精确控制等要求，已成为集成电路制造工艺中的关键装备。

常用的生产型离子注入机主要有三种类型：低能大束流注入机、高能注入机和中束流注入机

低能大束流离子注入机：大束流的注入机的束流可以达到几毫安甚至几十毫安，注入剂量范围 。能量低于100keV，由于器件的特征尺寸不断缩小，需要低能量的注入，以形成浅结或超浅结，有的大束流的注入机的能量可以达到0.2keV。
高能离子注入机：高能注入机的能量可高达几MeV，注入剂量为 。
中束流离子注入机：中束流注入机的注入能量在几百keV范围内，注入剂量范围比高能注入机大 。

离子注入机是高压小型 加速器中的一种，应用数量。它是由离子源得到所需要的 离子，经过加速得到几百千电子伏能量的离子束流，用做半导体材料、 大规模集成电路和器件的离子注入，还用于金属材料表面改性和制膜等。

离子注入机广泛用于掺杂工艺，可以满足浅结、低温和精确控制等要求，已成为集成电路制造工艺中的关键装备。

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