EVG 紫外光刻机 610/620/6200系列
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产品详情
“EVG 紫外光刻机 610/620/6200系列”参数说明
是否有现货: | 是 | 认证: | ISO9000 |
品牌: | 奥地利 EVG | 自动化程度: | 半自动 |
是否加工定制: | 是 | 电流: | 交流 |
型号: | EVG 610 | 规格: | N |
商标: | N | 包装: | N |
产量: | 10 |
“EVG 紫外光刻机 610/620/6200系列”详细介绍
EVG610是一款非常灵活的适用于研发和小批量试产的对准系统,可处理 200mm 之内的各种规格的晶片。 EVG610 支持各种标准的光刻工艺,例如:真空、软、硬接触和接近曝光;也支持其他特殊的应用,如键合对准、纳米压印光刻、微接触印刷等。系统中的工具更换非常简便快捷,每次更换都可在一分钟之内完成,而不需要专门的工程人员和培训,非常适合尊龙人生就是搏网站、研究所的科研实验和小批量生产。
主要特点
1. 最大化的降低使用者的总体拥有成本; 2. 支持背面对准光刻和键合对准工艺 3. 自动的微米计控制曝光间距 4. 自动契型补偿系统 5. 优异的全局光强均匀度 6. 免维护单独气浮工作台 7. 最小化的占地面积 图形化用户界面 9. 完善的多用户管理(用户权限、界面语言、菜单和工艺控制)
技术参数
衬底/晶片尺寸(mm) 小片--200mm,150mm*150mm,0.1-10mm 厚度 掩膜板最大尺寸 9'*9' 物镜间距 8-30mm连续可调 对准方式 上部对准,CCD ±0.5um 上部对准,目镜 可选 底部对准 可选 透过式红外对准 可选 键合对准 可选 原位对准校正 可选 工作台 精密微米计 手动 载片台 真空吸盘式,标配4寸,可扩至8寸 接触压力 5-80N可调 曝光 方式 接近式,软、硬、真空接触 分辨率 接触式<0.8um,接近式≥2um 波长 350-450nm,可选200nm 光强均匀性 ≤2% 汞灯 350W,500W 纳米压印光刻 硬压头 可选 软压头 可选
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