氧化铌靶材

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我司的氧化铌靶材采用 的真空热压、热等静压、冷压烧结和热喷涂工艺生产，产品包括矩形靶、圆弧靶和管靶等类型。

纯度：99.99%；             

形状：圆柱形、平面；          

冷压烧结平面靶材尺寸：长宽范围10-600毫米（可根据客户的尺寸定制）。

管靶尺寸：外径50-160mm，厚度4-17.5mm ；长度200-4000mm（可根据客户的尺寸定制）            

 密度：4.3 g/cm3～4.5g/cm3 ，相对密度＞99%两种             

电阻率：小于0.1 （20℃）              

工艺：氧化铌旋转靶采用等离子喷涂工艺，氧化铌平面靶采用冷压烧结、真空热压、热等静压三种工艺均可提供              

用途：氧化铌靶材，主要用于薄膜太阳能、光学玻璃镀膜、触摸屏AR膜、LOW-E玻璃膜（低辐射玻璃）、半导体、触摸屏、平板显示器、工具装饰镀膜等。

 

 

 

氧化铌靶

Niobium oxide target

性能

Product performance

化学成分/at%

Composition

Nb2Ox，x=4.5～4.8

纯度/%

Purity

99.99

密度/g/cm3

Density

≥4.5

晶粒度/μm

Grain size

≤5

金属杂质总和/ppm

Total content of metallic impurities

≤100

电阻率/Ω

Resistivity

5×10-4

规格尺寸/mm

Size

平面靶

Planar target

热等静压/热压，≤500×250

Hot isostatic pressing/Hot pressing

旋转靶

Rotating target

热喷涂成形

thermal spraying

长度Length≤4000

厚度Thickness≤17.5