LPMS CVD05紧凑型側式真空氣相沉積設備
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产品详情
“LPMS CVD05紧凑型側式真空氣相沉積設備”参数说明
是否有现货: | 是 | 计算机化: | 非计算机化 |
自动化: | 自动化 | 样式: | 立式 |
塑化方式: | 镀膜机 | 合模方式: | 紧凑型側式真空氣相沉積設備 |
品牌: | LPMS | 产品用途: | 产品镀膜 |
产量: | 100 |
“LPMS CVD05紧凑型側式真空氣相沉積設備”详细介绍
真空气相沉积设备是一种用于电子产品防水保护的镀膜设备。工作时把含有构成薄膜元素的化合物(长链性高分子材料,一般为派瑞林Parylene)、单质气体经过升华、热解后进入放置产品的真空反应室,借助空间气相化学反应, 在产品表面上沉积生成0.1-100um的厚度均匀,无应力、优异的电绝缘性和防护性、防潮、防霉、防腐、防盐雾的薄膜涂层。
广泛应用于:航空航天、电路板、LED 、磁性材料、传感器、硅橡胶、密封件、医疗器械、珍贵 等领域产品的防水封装与保护工艺中。
- 直径0.5米不锈钢真空反应罐,坚固耐用,镀膜速度快。
- 机台一体式设计,结构紧凑,占地小。
- 真空管路采用不锈钢连节,方便维护及保养。
- 侧开式门设计便于取放产品与腔体清洁等维护作业。
- 反应罐内置转盘机构使产品在镀膜过程中匀速旋转,镀层 均匀。
- 使用数位LED真空计显示工作状况时的真空度。
- 操作简易,可依实际需求变换自动 /手动操作模式。
- 红外线加热圈,加温速度快。
- 采用高精度温控装置多段控温,温控 。
- 定时加热、超温报警和自动停止加热等保护功能
- 自诊功能和各种故障报警。
选配远程控制和手机APP功能。
廣泛應用於:航空航太、電路板、LED 、磁性材料、感測器、矽橡膠、密封件、醫療器械、珍貴 等領域產品的防水封裝與保護工藝中。
- 直徑0.5米不銹鋼真空反應罐,堅固耐用,鍍膜速度快。
- 機台一體式設計,結構緊湊,占地小。
- 真空管路採用不銹鋼連節,方便維護及保養。
- 側開式門設計便於取放產品與腔體清潔等維護作業。
- 反應罐內置轉盤機構使產品在鍍膜過程中勻速旋轉,鍍層 均勻。
- 使用數位LED真空計顯示工作狀況時的真空度。
- 操作簡易,可依實際需求變換自動 /手動操作模式。
- 紅外線加熱圈,加溫速度快。
- 採用高精度溫控裝置多段控溫,溫控精確。
- 定時加熱、超溫報 和自動停止加熱等保護功能
- 自診功能和各種故障報 。
- 選配遠程控制和手機APP功能。
設備總尺寸 ( 寬度 , 深度 , 高度 )
1170 mm x 1860 mm x 1970mm
反應罐體内尺寸
Ø500 mm x 600 mm
反應罐罐口尺寸
454 mm x 600 mm
輸入電壓
三相380 VAC / 50 Hz
設備最大功率
15 Kw
溫控分區
6
分解爐溫控範圍
室溫至700℃
昇華爐溫控範圍
室溫到150℃
原料門溫控範圍
室溫到250℃
製冷壓縮機功率
1000 W
製冷量
887 W
製冷溫度
-90℃
真空泵型號
2RH 030C
真空泵抽氣速率
30 m³
真空壓力
≤5 Pa
真空泵電機功率
1.1 KW (三相380VAC)
真空泵電機轉速
1420 R/Min
控制系統
10 ”人機介面,PLC 控制
遠程控制和APP
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