供应 钛靶 溅射靶材 高纯钛靶
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产品详情
“供应 钛靶 溅射靶材 高纯钛靶”参数说明
是否有现货: | 是 | 结构: | α钛合金 |
钛含量: | 99.7 | 型号: | TA1/TA2 |
规格: | Φ100*40,Φ98*40 | 商标: | 胜邦钛业 |
包装: | 木箱包装 | 产量: | 890 |
“供应 钛靶 溅射靶材 高纯钛靶”详细介绍
钛 靶
一、牌号
国内牌号:TA1、TA2、TA3、TA7、TA9、TA10、TC4、TC11 。
美标牌号:GR1、GR2、GR3、GR5、GR7、GR11。
二、靶材的主要性能要求: (1)纯度 纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中,对靶材的纯度要求也不尽相同。 (2)杂质含量 靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如,半导体工业用的纯铝及铝合金靶材,对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。 (3)密度 为了减少靶材固体中的气孔,提高溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率,还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和强度使靶材能 地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。 (4)晶粒尺寸及晶粒尺寸分布 通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材,晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快;而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布 均匀。
三、加工工艺 锻造、轧制。
四、表面 车光、倒角。表面清洁光滑,无起皮,气孔,裂纹等缺陷。
五、规格 Φ100*40,Φ98*40,Φ95*45,Φ90*40,Φ85*35,Φ65*40较常见,其他规格可按客户要求制作。
六、执行标准 国标:GB/T 16598,GB/T2965 。 美标:ASTM B381,ASTM F67,ASTMF136, ASTM B348。
七、检测 破坏性检测:物理性能测试,硬度测试,化学成分测试。 无损检测:超声检测,渗透检测,外观检测。
一、牌号
国内牌号:TA1、TA2、TA3、TA7、TA9、TA10、TC4、TC11 。
美标牌号:GR1、GR2、GR3、GR5、GR7、GR11。
二、靶材的主要性能要求: (1)纯度 纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中,对靶材的纯度要求也不尽相同。 (2)杂质含量 靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如,半导体工业用的纯铝及铝合金靶材,对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。 (3)密度 为了减少靶材固体中的气孔,提高溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率,还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和强度使靶材能 地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。 (4)晶粒尺寸及晶粒尺寸分布 通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材,晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快;而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布 均匀。
三、加工工艺 锻造、轧制。
四、表面 车光、倒角。表面清洁光滑,无起皮,气孔,裂纹等缺陷。
五、规格 Φ100*40,Φ98*40,Φ95*45,Φ90*40,Φ85*35,Φ65*40较常见,其他规格可按客户要求制作。
六、执行标准 国标:GB/T 16598,GB/T2965 。 美标:ASTM B381,ASTM F67,ASTMF136, ASTM B348。
七、检测 破坏性检测:物理性能测试,硬度测试,化学成分测试。 无损检测:超声检测,渗透检测,外观检测。
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