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对于化工行业而言，许多领域都对用于研磨分散设备对物料进行研磨细化，分散均匀。化工行业研磨分散设备有许多，如：胶体磨、研磨机、分散机，研磨分散机等等。上海专业于研磨分散设备的研发和生产，在化工行业有着十分广泛的应用，如：白炭黑的分散机，涂料的研磨分散机、氧化物的研磨分散，改性润滑油，柴油乳化，石蜡乳化等。

详情请接洽上海依肯,段明明，手机，18018542795 QQ1530975733，公司有样机供客户实验

化工研磨分散机CMD2000系列，是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）

CMD2000系列化工研磨分散机的结构：研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

第一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

   第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是 转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验 工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMD2000系列化工研磨分散机的特点：

①线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

②定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

⑤高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

CMD2000系列化工研磨分散机设备选型表

型号	流量 L/H	转速 rpm	线速度 m/s	功率 kw	入/出口连接 DN
CMD2000/4	300	9000	23	2.2	DN25/DN15
CMD2000/5	1000	6000	23	7.5	DN40/DN32
CMD2000/10	2000	4200	23	22	DN80/DN65
CMD2000/20	5000	2850	23	37	DN80/DN65
CMD2000/30	8000	1420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	15000	1100	23	110	DN200/DN150

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