薄膜沉积系统 全自动原子层沉积设备 那诺-马斯特
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产品详情
“薄膜沉积系统 全自动原子层沉积设备 那诺-马斯特”参数说明
| 是否有现货： | 否 | 品牌： | 那诺-马斯特/nano-master |
| 适用范围： | 医疗卫生,化工,生物产业,电子,制药 | 分类： | 实验室仪器 |
| 类目： | 原子层沉积 | 型号： | Nld-3500(a) |
| 规格： | 台 | 商标： | Nano-master |
| 包装： | 原厂 |
“薄膜沉积系统 全自动原子层沉积设备 那诺-马斯特”详细介绍
NLD-3500(A)全自动原子层沉积设备概述：原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术，具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足 膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积，这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响，所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性，可以提供优异的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。
NLD-3500(A)全自动原子层沉积设备特点：NLD-3500（A）是一款全自动独立的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统，带Labview软件，具备四级密码控制的用户授权保护功能。系统为全自动的互锁设计，并提供了强大的灵活性，可以用于沉积多种薄膜（如：AL2O3, AlN, TiN, ZrO2, LaO2, HfO2,等等）。应用领域包含半导体、光伏、MEMS等。NLD-3500（A）系统提供12”的铝质反应腔体，带有加热腔壁和气动升降顶盖，非常方便腔体的访问和清洁。该系统拥有一个载气舱包含多达7个50ml的加热汽缸，用于前驱体以及反应物，同时带有N2或者Ar作为运载气体的快脉冲加热传输阀。
NLD-3500(A)全自动原子层沉积设备选配：NLD-3500（A）系统的选配项包含，ICP离子源(用于等离子增强的PEALD)，臭氧发生器，等等。
NLD-3500(A)全自动原子层沉积设备应用：
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Oxides氧化物: Al2O3, HfO2, La2O3, SiO2, TiO ZnO, In2O3，etc
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Nitrides氮化物: AlN, TiN, TaN, etc..
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Photovoltaic and MEMS applications光伏及MEMS应用.
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Nano laminates纳米复合材料
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