原子层沉积 PEALD系统 那诺-马斯特
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产品详情
“原子层沉积 PEALD系统 那诺-马斯特”参数说明
是否有现货: | 否 | 品牌: | 那诺-马斯特/nano-master |
适用范围: | 医疗卫生,化工,生物产业,电子,制药 | 分类: | 实验室仪器 |
类目: | 原子层沉积 | 型号: | Nld-4000(icpm) |
规格: | 台 | 商标: | Nano-master |
包装: | 原厂 |
“原子层沉积 PEALD系统 那诺-马斯特”详细介绍
NLD-4000(ICPM)PEALD系统概述:原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术,具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足准确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性,可以提供优异的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。
NLD-4000(ICPM)PEALD系统特点:NLD-4000(ICPM)是一款紧凑型独立的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统,带Labview软件,具备四级密码控制的用户授权保护功能。系统为全自动的互锁设计,并提供了强大的灵活性,可以用于沉积多种薄膜(如:AL2O3, AlN, TiN, ZrO2, LaO2, HfO2,等等)。应用领域包含半导体、光伏、MEMS等。NLD-4000(ICPM)系统提供12”的铝质反应腔体,带有加热腔壁和气动升降顶盖,非常方便腔体的访问和清洁。该系统拥有一个载气舱包含多达7个50ml的加热汽缸,用于前驱体以及反应物,同时带有N2或者Ar作为运载气体的快脉冲加热传输阀。
NLD-4000(ICPM)选配:NLD-4000(ICPM)系统的选配项包含自动L/UL上下载(用于6”基片),臭氧发生器,等等。
NLD-4000(ICPM)应用:
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Oxides氧化物: Al2O3, HfO2, La2O3, SiO2, TiO ZnO, In2O3,etc
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Nitrides氮化物: AlN, TiN, TaN, etc..
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Photovoltaic and MEMS applications光伏及MEMS应用.
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Nano laminates纳米复合材料
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